Dielectric functions of PECVD-grown silicon nanoscale inclusions within rapid thermal annealed silicon-rich silicon nitride films
Titre de la revue et éditeur:
(acte de conférence ICSE-V) - Thin Solid Films
Type:
Articles répertoriés avec comité de lecture (Actes de conférences précisés)
Etat:
Publiée
Pages:
2870-2873
Langue de l'article:
EN
N° Volume:
519
N° article:
9
Date:
28/02/2011
Equipe / Pôle de recherche:
Nanomatériaux