Second-order systematic errors in Mueller matrix dual rotating compensator ellipsometry
Titre de la revue et éditeur:
Applied Optics
Type:
Articles répertoriés avec comité de lecture (Actes de conférences précisés)
Etat:
Publiée
Pages:
3250-3258
Langue de l'article:
EN
N° Volume:
49
N° article:
17
Date:
10/06/2010
Lien doi:
Equipe / Pôle de recherche:
Nanomatériaux
Ellipsométrie